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[事例2]高電圧基板のアートワーク+基板作製

  • 執筆者の写真: 株式会社グロース
    株式会社グロース
  • 2025年10月29日
  • 読了時間: 1分

更新日:2025年10月31日

お客様からのご要望

初めて高電圧基板を開発するお客様からご相談を受け、弊社主体で基板設計値などのご提案をさせて頂きました。



高電圧基板での空間距離(※1)、沿面距離(※2)は、

  • 各国の規格(JIS、IECなど)

  • 過電圧カテゴリと動作電圧

  • 汚染度・ 絶縁材料(CTI値)


などによって決まりますが、本基板では、遵守すべき規格は明確には無いケースだった為、機能、性能、安全性を満足するように、弊社主体で提案を行い、お客様と調整のうえ、


JIS C1010-1 表7 沿面距離

汚染度2、CTI値175以上より

他ブロック間:10mm

Low-Highブロック間:フォトカプラ部を除き、13.6mm


と決定しました。



出力部FETは、

並列接続のため、配線インダクタンスが同等になるように、対称な配置・配線にしています。

また、フォーミングを行い、ドレイン及びソースと他pinの空間距離を確保するようにしました。




※1、※2 )空間距離、沿面距離とは


測定、制御及び研究室用機器の空間距離及び沿面距離は、JIS C1010等で規定されています。

空間距離 : 2つの導電性部分間の、空間を通る最短距離

沿面距離 : 2つの導電性部分間の、絶縁物の表面に沿った最短距離






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